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工程師正在實驗室工作的照片
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DUV 光刻機也不能賣了?外媒:日本、荷蘭加入美國,對中國實施嚴厲的晶片管制

根據《彭博社》、《金融時報》和《紐約時報》的報...

華為申請了一項 EUV 光刻工具組件專利,用於製造小於 10nm 晶片 EUV
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華為申請了一項 EUV 光刻工具組件專利,用於製造小於 10nm 晶片

華為已經申請了一項專利,這項專利涵蓋了 EUV...

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