ASML 在 7 月 15 日宣布，Intel Foundry 已使用 ASML EXE High-NA EUV 技術，生產一部分 Intel Core Ultra Series 3、代號 Panther Lake 的處理器。ASML 表示，Intel 18A 製程中的特定層別已在 Oregon 以 High-NA EUV 完成雙重認證，產品以與 NXE 平台相當的良率出貨給客戶。
這是 High-NA EUV 首次被放進高量邏輯產品的生產環境，但公告描述的是部分層別和一部分處理器，並不代表 Panther Lake 每一層都改用 High-NA EUV。ASML 沒有在公告中公開實際出貨量、每片晶圓良率或設備台數。
High-NA EUV 在 Intel 18A 僅用於部分層別
High-NA EUV 是把極紫外光微影的數值孔徑提高，用更高解析度印出先進晶片圖形的設備技術。對晶圓廠而言，難點不只在解析度，還包括光罩、對準、曝光時間、設備穩定度和整條製程的協調。
ASML 表示，特定 Intel 18A 層別已在 Oregon 完成 dual qualification，代表同一層別可以在 High-NA EUV 和 NXE 平台之間符合生產要求。這項安排讓 Intel 先把新設備放進有限範圍，累積系統設定、稼動時間和製造導入資料。
Panther Lake 讓 High-NA EUV 首次進入高量邏輯產品
ASML 將這次里程碑描述為業界首個使用 High-NA EUV 出貨的高量邏輯產品。Tom’s Hardware 依 ASML 公告報導，Intel 的 High-NA 層別位於 Intel 18A 製程，產品是 Core Ultra Series 3 的 Panther Lake。
這個進展把 High-NA EUV 從研究與設備驗證推向實際產品，但目前能確認的是特定層別已進入生產和出貨，不能據此推算 Intel 已經把整個 18A 製程或其他產品全面換用 High-NA EUV。
ASML 以生產資料修正 High-NA EUV 導入設定
ASML 說明，Panther Lake 的 High-NA EUV 層別會提供系統設定、稼動時間和製造導入資料，協助兩家公司把技術從單一設備的驗收，推進到可重複的製造流程。High-NA 的價值在於更精細的圖形能力，但產線採用仍取決於產量、穩定度和每層成本。
Intel Foundry 和 ASML 仍在合作，並保留依客戶需求把 High-NA EUV 納入未來節點的彈性。公告沒有公布下一個節點的確定產品、導入日期或 High-NA EUV 將占多少層別。
消息來源：ASML、Tom’s Hardware。
