根據 DigiTimes 的報導，荷蘭半導體設備製造商 ASML 似乎正在策劃一種巧妙的策略，目的是要規避新的銷售許可禁令。這家公司擬向中國市場推出特供版 DUV 光刻機（或稱曝光機，下面文章將以光刻機稱呼），這意味著中芯國際、華虹等中國半導體企業可能可以繼續使用荷蘭的設備生產 28 奈米以及更成熟工藝的晶片。
基於舊型號改造的特供版光刻機
特供版 DUV 光刻機的改造基礎是 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統，這是 10 年前推出的一款老舊型號。值得注意的是，這款舊型號不在新的官方禁令範圍內，因此 ASML 可以避開新的限制，將其用於特供版光刻機的改造。
雖然 1980Di 是 ASML 現在效率較低的一款光刻機，但它支援 NA 1.35 光學器件，分辨率可以達到小於 38 nm，理論上可以支援 7nm 工藝。然而，大多數的晶圓廠使用 1980Di 光刻機主要用來生產 14nm 及以上工藝的晶片，對於 7nm 晶片的生產使用並不多。
但是對中國的半導體市場來說，這無異於在汪洋中的小船，估計這特供版光刻機對中國市場具備著巨大吸引力。當然，後續荷蘭與美國政府會不會又針對這台機器推出新的禁令，就不得而知了。
更新：ASML 在報導出來後，火速否認「向中國提供特供版光刻機」這件事。
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