光刻機

華為申請了一項 EUV 光刻工具組件專利,用於製造小於 10nm 晶片 光刻機
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華為申請了一項 EUV 光刻工具組件專利,用於製造小於 10nm 晶片

華為已經申請了一項專利,這項專利涵蓋了 EUV...

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